Научно-исследовательский центр коллективного пользования «Материаловедение и металлургия»

Cканирующий ионный микроскоп Strata FIB 205 System фирмы «FEI Company»

Основные технические характеристики и возможности установки

• Возможность получения изображения во вторичных ионах и электронах в диапазоне увеличений Х 250-350000.
• Пространственное разрешение до 5 нм². 
• Возможность готовить ультратонкие пробы (толщиной до 50 нм) для просвечивающего электронного микроскопа на локальных участках образца
• Модификация и восстановление микросхем.
• Гарантированный минимальный размер канавки травления 100нм, минимально достигаемый – 10 нм².
• Ионная пушка - галлиевая жидкометаллическая. Изменение размеров ионного пучка в пределах 5-500 нм с автоматической запрограммированной сменой апертур (не менее 10 ступеней).
• Диапазон изменения тока ионного пучка: 1-10нА, плотность тока до 50А/см² , нестабильность пучка менее 5%/час
• Вакуум в исследовательской камере ~1,3•10^-6 мбар после 24-х часовой откачки
• Вакуум в камере ионной пушки < 4•10^-7 мбар
• Время откачки исследовательской камеры ~ 210 сек до 10^-4 мбар
• Максимальные размеры образца: диаметр 80 мм или площадь 55 мм², высота до 25 мм, вес до 150 г. 
• 5 степеней свободы стола-держателя (X, Y±25 мм, Z 25мм, поворот 360⁰, наклон -10 +45⁰)
• Источники для осаждения платины и ионно-стимулированного травления диэлектриков